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Movimiento y calefacción en alto vacío y UHV

GLAD - Glancing Angle Deposition Stage

GLAD - Platforma de deposición de ángulo de brillo

Deposition stage variable angle to flange
Glancing Angle Deposition (GLAD) is creating great interest in areas where structured three-dimensional deposition is required. Based on UHV Design's highly successful EpiCentre range, the GLAD stage provides an in-line solution (as with the EC-I Series) but with the addition of substrate tilt. Being an in-line stage, a large range of axial (Z) motion can be provided.
By precisely controlling the polar and azimuthal rotations simultaneously, novel structures can be grown, which have, for example, columnar morphology or a nano-helical structure or are structured via anisotropic shadowing. Such materials have applications in many highly topical fields such as photonics, catalysis, bio-compatible materials and fuel cells.
Being fully UHV compatible, the GLAD stage is eminently suitable for use with all the usual directional deposition sources, such as thermal evaporation, physical vapour deposition, pulsed laser deposition and magnetron sputtering.
Specifications and models are available from the GLAD page on the UHV Design web-site.
Glancing Angle Deposition (GLAD) esta creando un gran interés en areas donde se necesita una deposición tridimensional estructurada. Basado en la gama EpiCentre de gran éxito de UHV Design, la plataforma GLAD proporciona en solución en línea (como con EC-I Series) pero añadiendo inclinación de sustrato. Siendo una plataforma en línea, hay disponible una gama amplia de movimiento axial (Z).
Controlando las rotaciones polares y azimutales simultáneamente, se pueden crear estructuras nuevas, lo que tienen por ejemplo morfología columnar o una estructura nano-helicoidal o se estructuran a través de sombreado anisotrópico. Dichos materiales tienen aplicaciones en muchos campos como fotónica, catalisis, materiales bio-compatibles y celdas de combustible.
Siendo totalmente compatible con ultra alto vacío, la plataforma GLAD es claramente apropiado para el uso con todas las fuentes de deposición direccional mas comunes, como evaporación termal, PLD (deposicion de laser pulsado) y deposición por pulverización catódica.
Hay disponibles especificaciones y modelos en la pagina GLAD en el sitio web de UHV Design.
Features
  • Continuous azimuthal rotation from 0.1 - 20 rpm, but at any tilt angle from zero to +/- 85º.
  • Substrate temperature heating to 1200° C, with solid silicon carbide technology option to provide durability in O2 rich environments.
  • DC bias ≤ 1 kV for sputter process modification – ultra-stable plasma during azimuthal rotation.
  • RF bias to 100 W power for substrate cleaning prior to deposition. Ultra-stable plasma during azimuthal rotation.
  • Z-axis travel up to 200 mm to accommodate different source geometries.
  • Optional rotation of the entire stage/tilt axis orientation to facilitate glancing angle deposition using out-of-plane sources. (Requires the use of a differentially pumped rotary feedthrough that can be fitted as an option.)
Características
  • Rotación azimuthal continua desde 0,1 - 20 rpm, a cualquier ángulo de inclinación desde cero a +/- 85º
  • Calentamiento de sustrato a temperatura hasta 1200º C con opción de tecnología solida de carburo de silicio para proporcionar durabilidad en ambientes ricos en O2
  • Polarización de tensión CC ≤ 1kV para modificación de procesos de deposición por pulverización catódica. Plasma ultra estable durante la rotación azimutal
  • Polarización de tensión RF hasta una potencia de 100 W para limpieza de sustrato antes de deposición. Plasma ultra estable durante la rotación azimutal
  • Movimiento de eje Z hasta 200 mm para adaptarse a diferentes geometría
  • Rotación opcional de la orientación del toda la plataforma/inclinación para facilitar ángulo oblicuo de deposición
Deposition stage variable angle to flange
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