@import((rwml-menu))
ES
EN
ES
EN

ES

EN

ES

EN

Deposición en vacío

NANOSYS series- Deposition system

Serie NANOSYS- Sistema de deposición

Sistemas de deposición NANOSYS
The Nanosys500 system offers true UHV integrity combined with features crucial to allow the user to explore full potential of nanoparticle deposition. The main chamber has a spherical construction with all ports axes passing through the centre-point. The chamber has internal welds and is polished to minimise outgassing. Numerous ports are provided for deposition components, with emphasis on below-horizontal alignment to accommodate instruments which use crucibles to contain evaporant, such as effusion cells. The chamber can optionally be equipped with removable cross-contamination shielding in applications where high rates of deposition are required.
Visit the Mantis Deposition site for more detailed information.
The Nanosys500 system offers true UHV integrity combined with features crucial to allow the user to explore full potential of nanoparticle deposition. The main chamber has a spherical construction with all ports axes passing through the centre-point. The chamber has internal welds and is polished to minimise outgassing. Numerous ports are provided for deposition components, with emphasis on below-horizontal alignment to accommodate instruments which use crucibles to contain evaporant, such as effusion cells. The chamber can optionally be equipped with removable cross-contamination shielding in applications where high rates of deposition are required.
Visita el sitio web de Mantis Deposition para obtener información más detallada.
IntroductionIntroducción
IntroductionIntroducción
A highly modular platform that can be configured to operate as a high vacuum or UHV deposition system. The all metal seal design delivers the pristine environment for the highest performance purity deposition. Multiple platforms are available from small scale R&D with 1" samples to 6" diameter automated processing.
Una plataforma modular que puede ser configurado para operar como alto-vacío o sistema de deposición UHV. El diseño total de sellos metálicos aporta un ambiente impecable para una deposición de pureza de alto rendimiento. Múltiples plataformas están disponibles, desde pequeños I + D con muestras de 1” a procesamientos automatizados con diámetro 6”.
Applications
- Thin-film solar cells
- High-efficiency
- Photovoltaics
- Gas sensors
- Catalysts
- Semiconductors
- Bio coatings
- Medical devices
Aplicaciones
- Células solares de película fina
- Energía solar fotovoltaica de alta eficiencia
- Sensores de gas
- Catalizadores
- Semiconductores
- Cubiertas biológicas
- Herramientas médicas
Sistemas de deposición NANOSYS
Vacuum chamber
Cámara de vacío
Vacuum chamber
Cámara de vacío
The Nanosys500 system offers true UHV integrity combined with features crucial to allow the user to explore full potential of nanoparticle deposition. The main chamber has a spherical construction with all ports axes passing through the centre-point. The chamber has internal welds and is polished to minimise outgassing. Numerous ports are provided for deposition components, with emphasis on below-horizontal alignment to accommodate instruments which use crucibles to contain evaporant, such as effusion cells. The chamber can optionally be equipped with removable cross-contamination shielding in applications where high rates of deposition are required.
The system uses turbodrag pumps with dry backing pumps as standard, enabling pressures in the low 10-9 or 10-10 mbar to be achieved (after bakeout). Alternative pumping system can be incorporated at customer request.
El sistema Nanosys500 ofrece verdadera integridad UHV, combinado con características cruciales para permitir que el usuario explore todo el potencial de deposición de las nanopartículas. La cámara principal tiene una construcción esférica con todos los ejes de puertos pasando por el punto central. Tiene además soldaduras internas y está pulido para minimizar la desgasificación. Numerosos puertos son aportados para componentes de deposición, enfatizando el alineamiento inferior para acomodar instrumentos que usan crisoles para contener evaporantes, como células de efusión. La cámara puede estar equipada con escudos retirables de contaminación cruzada, en aplicaciones en las cuales se requieren altas tasas de deposición.
El sistema usa bombas turbodrag con bombas secas de forma estándar, permitiendo presiones bajas de la región 10-9 / 10-10 mbar. Sistemas de bombeo alternativos se pueden incorporar a la petición del cliente.
Sample handling
Manipulación
Sample handling
Manipulación de las muestras
Sample Loading
In the basic system, sample entry can be made through a quick-load hinged door (o-ring sealed). For true UHV applications it is necessary to use a sample entry load-lock. Our load-lock uses a magnetically coupled linear/rotary transfer arm to transport samples to the main chamber. Optionally, a sample holder carousel can be included to allow multiple samples to be loaded in the load-lock chamber.
Sample Table
The sample table/manipulator can fit 2" or multiple smaller samples and can be modified for a number of custom configurations.
Options
- Variable speed (2 - 20 rpm) sample rotation
- DC or RF sample table bias
- Sample heating up to 800° C
- Sample cooling
- Z-shift (0 - 100 mm)
- The sample cradle in heated sample holders is manufactured of refractory materials.
Carga muestral
En el sistema básico, la entrada de la muestra se puede llevar a cabo por una puerta bisagrada de carga rápida. Para aplicaciones verdaderas de UHV es necesario usar una entrada de la muestra load-lock. Nuestro load-lock usa un brazo acoplado magnéticamente lineal/de rotación para transportar muestras a la cámara principal. Opcionalmente, un carrusel muestral puede incluirse para permitir la carga de múltiples muestras en la cámara load-lock.
Manipulador de muestras
El manipulador de muestras puede acomodar muestras de 2” o más pequeños y puede ser modificado de varias formas.
Opciones
- Velocidad variable de rotación muestral (2 - 20 rpm)
- Bias de manipulador muestral DC/RF
- Calentamiento muestral de hasta 800º C
- Enfriamiento muestra
- Z-shift (0 - 100 mm)
- La cuna muestral en portamuestras calentados se fabrica por materiales refractarios.
Sources
Fuentes
Sources
Fuentes
E-beam evpaorator
E-beam Sources
We offer two types of e-beam evaporation sources:
  • Low dose, high accuracy - These are intended for highly-controlled, ultra-thin film deposition of refractory materials into the system. See more details here.
  • Multi kW sources - These offer high deposition rate and high capacity. Up to two larger sources (single or multi-pocket) may be installed.

Nanoparticle source
Nanoparticle Sources
The NanoGen50 nanoparticle source can be installed on the chamber to allow controlled nanoparticle deposition onto the sample. Nanoparticles can be generated from any metal as well as from many compound materials (oxides, nitrides, carbides...) and alloys. The size of the particles is highly controlled - mean between ~0.5 nm and 20 nm with a narrow size distribution of ±15%.

Plasma source
Atomic Sources
For the growth of oxides or nitrides at low pressure, it is often necessary to use a more reactive form of oxygen (and certainly nitrogen) to form oxide or nitride compounds. Mantis Deposition manufactures RF plasma sources which are used to generate beams of higly reactive atomic oxygen or nitrogen. These can be incorporated to act alongside conventional metal deposition sources to grow high-quality compound layers.

Evaporadores haz de electrones
Fuentes de haz de electrones
Ofrecemos dos tipos de fuentes de evaporación de haz de electrones:
-Bajo dosis, alta precisión: Se usan para deposición de materiales refractorias por películas ultra- finas y altamente controlada al sistema.
-Fuentes Multi kW: Ofrecen una alta tasa de deposición y alta capacidad. Hasta dos fuentes más grandes (compartimento simple o múltiple) pueden instalarse.

Fuentes para la generación de nanopartículas
Fuentes de nanopartículas
La fuente de nanopartículas NanoGen50 puede instalarse en la cámara para permitir deposición controlada de nanopartículas en la muestra. Nanopartículas pueden generarse de cualquier metal, además de muchos compuestos (óxidos, nítruros, carburos) y aleaciones. El tamaño de las partículas está altamente controlada con una media entre 0,5 nm y 20 nm con una distribución estrecha de 15%.

Plasma source
Fuentes atómicas
Para el crecimiento de óxidos o nitruros a baja presión es frecuentemente necesario usar una forma más reactiva del Oxígeno (y definitivamente del Nitrógeno= para formar compuestos de oxígeno y nítricos. Mantis Deposition genera fuentes de plasma RF que se usan para generar haces de oxígeno o nitrógeno altamente reactivos. Se pueden incorporar para actuar junto a fuentes de deposición metálica convencionales para que crezcan capas compuestas de alta calidad.

SearchBuscar
Exhaust gas abatementExhaust gas abatement
KS-7OKS-7O
PS-7PS-7
Gas sensorsSensores de gas
Abatement with CLEANSORB dry-bed absorbersReducción con absorbentes CLEANSORB
Privacy policyPolitica de privacidad
Vacuum technologyTecnología de vacío
Contact usConsulta
Surface scienceCiencia de superficies
Vacuum deposition - productionDeposición al vacío - producción
Vacuum deposition - R & DDeposición al vacío - I + D
DownloadsDescargas
20152015
20142014
20132013
20122012
NewsNoticias
Dangerous gasesGases peligrosos
Vacuum flangesBridas de vacío
Gas throughput and pumping speedCaudal de gas y velocidad de bombeo
Definition, units and levelsDefinición, unidades y niveles
Technical notesNotas técnicas
SynchrotronSincrotrón
ApplicationsAplicaciones
SDMSDM
XP-329IIIRXP-329IIIR
XP-302MXP-302M
XP-31XXXP-31XX
XP-703DXP-703D
XP-702XP-702
XPS-7XPS-7
XX-2200XX-2200
Portable detectorsDetectores portátiles
SH-WADSH-WAD
TX-WADTX-WAD
KD-12KD-12
Gas detectorsDetectores de gases
Cryogenic - On-Board ISCriogénica - On-Board IS
Cryogenic - On-Board WaterpumpsCriogénica - On-Board Waterpumps
Cryogenic - On-BoardCriogénica - On-Board
Cryogenic - Cryo-TorrCriogénica - Cryo-Torr
Radio FrequencyRF
Low / mid frequencyCA
DCCC
Power suppliesFuentes de alimentación
Materials guidesGuías de materiales
Deposition materialsMateriales de deposición
Organic materialsMateriales orgánicos
Themal boats Barcas termales
IonsIones
Effusion cellsCélulas de efusión
SputteringPulverización catódica
NanoparticlesNanopartículas
Themal gas crackersCrackers de gas termales
E-beam evaporatorsEvaporadores de haz de electrones
SourcesFuentes de deposición
HEX seriesSerie HEX
NANOSYS seriesSerie NANOSYS
QUBE seriesSerie QUBE
QPREP seriesSerie QPREP
M seriesSerie M
SystemsSistemas
Vacuum deposition - PVDDeposición al vacío - PVD
Quartz crystal sensorsSensores de crystal de cuarzo
MonitorsMonitores
ControllersControladores
Thin film monitors and controllersControladores y monitores de deposición
ControllersControladores
Wide rangeAmplio rango
High precisionAlta precisión
Vacuum gaugesMedidores de vacío
Vacuum pumpsBombas de vacío
Deposition stagesPlataformas para la deposición
Manipulators for surface scienceManipuladores para la ciencia de superficies
TetrAxe - XYZTTetrAxe - XYZT
XYZ MultiStageMultiStage XYZ
XY stagesPlataformas XY
Y - shiftsDesplazamiento Y
Simple manipulatorsManipuladores sencillos
Heater modulesMódulos calefactores
Radial telescopic transfer armRadial telescopic transfer arm
Sample transferTransferencia de muestra
Magnetically coupledAcoplado magnéticamente
Push-pull devicesAparatos push-pull
Viewport shuttersObturadores para mirillas
Source shuttersObturadores rotatorias
ShuttersObturadores
LSM & HLSMLSM y HLSM
Linear movement and alignmentMovimiento lineal y alineación
CLEANSORB® stand-alone columnsSerie autónoma CLEANSORB®
Exhaust gas abatementReducción de gases de escape
Rotary motionMovimiento rotatorio
Movement and heatingMovimiento y calefacción
125μm UHV fibre feedthroughsPasamuros UHV de fibra-óptica con fibra de 125 µm
UHV feedthrough with attached in-vacuum fibrePasamuros UHV de fibra-óptica con fibra
UHV couplerAcoplamiento para ultra alto vacío
High vacuum couplerAcoplamiento para alto vacío
Fibre optic feedthroughsPasamuros de fibras ópticas
AccessoriesAccesorios
Adaptors and special hardwareAdaptadores y hardware especial
ISOISO
KFKF
CFCF
Flanges and hardwareBridas y elementos de conexión
UHV angle valvesVálvulas de ángulo, UHV
Angle valvesVálvulas de ángulo
Transfer valvesVálvulas de transferencia
Gate valvesVálvulas de guillotina
ValvesVálvulas
Special purposesFunciones especiales
Special materialsMateriales especiales
For lasersPara láser
Fused silicaSílice fusionado
SapphireZafiro
StandardEstándar
ViewportsMirillas
Pre-fabricated cablesCables prefabricados
AccessoriesAccesorios
Insulated wiresCables aislados
Cables and connectorsCables y conectores
Power GlovePower Glove
Multiway MSMS - multiway
High currentCorriente alta
Medium currentCorriente medio
Medium voltageVoltaje medio
Low voltageBajo voltaje
PowerPotencia
TriaxialTriaxial
Type NTipo N
MHV/SHVMHV/SHV
SMBSMB
SMASMA
BNCBNC
CoaxialCoaxial
HomeInicio
ProductsProductos
Vacuum componentsComponentes de vacío
Electrical feedthroughsPasamuros eléctricos
Sub-DSub-D
StandardEstándar
High densityAlta densidad
CombinationCombinacion
ConnectorsConectores
Crimp pinsPines crimp
Ready made cablesCables pre-fabricados
Circular Minature (CM)Circular Miniature (CM)
Dual-In-Line (DIL)Dual-In-Line (DIL)
ThermocouplesTermopares